AlN作為共價(jià)化合物,熔點(diǎn)高,自擴散系數小,通常都是通過(guò)高溫燒結制備,高成本限制了AlN作為封裝基板的應用。本文主要以納米AlN粉體為原料,通過(guò)選取不同的燒結助劑和添加劑,合理在A(yíng)lN燒結過(guò)程中,添加稀土多相復合燒結助劑有利于形成低溫液相,降低燒結溫度,提高燒結致密度,并凈化AlN晶界,從而能獲得較高的熱導率,是AlN陶瓷材料實(shí)現低溫常壓燒結的重要途徑之一。在未來(lái)的研究
AlN陶瓷的顯微結構直接影響其各種性能,而顯微結構又是被YAlO二次相對AlN晶體表面和晶界的浸潤特性所影響或控制。 實(shí)驗方法 采用H級和E級AlN粉體,其化學(xué)成分見(jiàn)表。 燒結助劑為(5~1干壓成型(軸向壓制成型)是將經(jīng)表面活性劑改性等預處理的 AlN 粉體加入金屬模具中,緩慢施加壓力使其成為致密的坯體成型工藝。實(shí)質(zhì)是借助外部施壓,依靠AlN粉末顆粒之間的相互作用力
未來(lái)需把精力投入到幾種方法的綜合利用或新型陶瓷燒結技術(shù)研發(fā)上,減小生產(chǎn)成本,使得AlN陶瓷產(chǎn)品的種類(lèi)豐富,外形尺寸結構多樣化、滿(mǎn)足多種領(lǐng)域應用的需求。 為促進(jìn)氮化鋁陶瓷基板產(chǎn)aln氮化鋁氮化鋁陶瓷燒結進(jìn)展粉末 AlN材料的研究現狀與進(jìn)展 一:AlN 顆粒和AlN 電子基片的研究現狀與進(jìn)展 理論上,AlN的熱導率為320Wm 1 1,工業(yè)上實(shí)際制備的多
燒結 燒結 燒結釹鐵硼 節概述 燒結過(guò)程是一門(mén)古老的工藝?,F在,燒結過(guò)程在許多工業(yè)部門(mén)得到廣泛應用,如陶瓷、耐火材料、粉末冶金、超高溫材料等生產(chǎn)過(guò)程中都含有燒結過(guò)摘要 采用放電等離子燒結(sparkplasmasintering,SPS)技術(shù),以CaF2為燒結助劑,在1850℃燒結15min,成功制備了透明AlN陶瓷。隨著(zhù)CaF2含量的增加,樣品的密實(shí)度和透過(guò)率都隨之提高
AlN粉末是制備AlN陶瓷的原料。它的純度,粒度,氧含量及其它雜質(zhì)含量,對制備出的氮化鋁陶瓷的熱導率以及后續燒結,成形工藝有重要影響。一般認為,要獲得性能優(yōu)良的AlN陶瓷材料,AlN屬于共價(jià)化合物,自擴散系數小,燒結致密化非常困難,通常需要使用稀土金屬氧化物和堿土金屬氧化物作為燒結助劑來(lái)促進(jìn)燒結,但仍需要1800℃以上的燒結溫度。 近
AlN熔點(diǎn)為 3300℃,因此AlN陶瓷的燒結溫度高達1900 ℃以上,嚴重制約了其在工業(yè)上的應用,添加合適的燒結助劑是降低AlN陶瓷燒結溫度的重要方法。 二、燒結助劑的作用原理 燒結助劑為某【摘要】:利用放電等離子燒結技術(shù)燒結氮化鋁,不加任何添加劑,在 180 0℃的燒結溫度、2 5MPa的壓力下,僅保溫 4min,可達到 99%的理論密度,SEM表明試樣內部晶粒細小,結
無(wú)壓燒結AlN(Y2O3)陶瓷熱導率的溫度關(guān)系.pdf,電子陶瓷、陶瓷一金屬封接專(zhuān)輯· 無(wú)壓燒結AIN{Y203)陶瓷熱導率的溫度關(guān)系 袁文杰,李曉云,丘泰,陸萬(wàn)澤 (南京工業(yè)大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)【摘要】本發(fā)明提供與被接合在接合面的半導體基板等其他構件之間的熱傳遞效率優(yōu)異的AlN基板,以及用于制造上述AlN基板的制造方法。AlN基板由包含2A族元素、3A族元素的AlN
1、常壓燒結 常壓燒結是AlN陶瓷傳統的制備?藝。在常壓燒結過(guò)程中,坯體不受外加壓?作?,僅在?般?壓下經(jīng)加熱由粉末顆粒的聚集體轉變?yōu)榫Я=Y合體,常壓燒結是簡(jiǎn)單、常壓燒結AlN陶瓷的研究表明:加入燒結助劑后,試樣的致密性改善,熱導率顯著(zhù)提高。所以,如果要獲得具有高導熱性能的AlN陶瓷,加入一些有效的燒結助劑是必須的。 3氮化鋁燒結助劑
優(yōu)點(diǎn):干壓成型法操作簡(jiǎn)單,工藝環(huán)節少,效率高。 缺點(diǎn):不能壓制復雜幾何形狀的坯體;需嚴格控制壓力大小,過(guò)大或過(guò)小均不利于得到高致密度AlN陶瓷無(wú)壓燒結SiCAlN復相陶瓷的顯微結構對于SiC與AlN在1800℃以上可以發(fā)生反應形成固溶體的研究結果有益于碳化硅陶瓷的燒結.在2100℃Ar氣氛的條件下,通過(guò)XRD、SEM和TEM等分析手段測試樣品的顆粒界面
用三組燒結助劑[多壁碳納米管(multiwall carbon nanotube,MWNT)、Y2O3CaF2及MWNTY2O3CaF2]在1 600℃低溫燒結AlN陶瓷,測試AlN陶瓷燒結密度、熱性能和電性能,分析其物相變【摘要】:正 通常生產(chǎn)AlN陶瓷基片需要在氮氣保護下采用高溫(1850℃左右)、長(cháng)時(shí)間保溫(4小時(shí)左右)燒結,燒成周期長(cháng),生產(chǎn)成本高,導熱率及其他性能有待進(jìn)一步提高。本研究采用兩