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離子束轟擊拋光、浮法拋光等,均屬于局部平坦化技術(shù),且平坦化能力從幾微米到幾十微米不等,但是國際上普遍認為,加工工件特征尺寸在0.35μm以下時(shí),必須進(jìn)行全局平坦化,而目前可以高長(cháng)徑比硅灰石和超細硅灰石的主要生產(chǎn)設備有:機械沖擊磨機、離心自磨機(如旋風(fēng)或颶風(fēng)超細自磨機、LFS離心式粉碎機)、流態(tài)化床式氣流粉碎機等。 其中,機械沖擊磨、離心自磨機等一般
